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charlie pen
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Taiwan
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Chinese to German: 先行核駁理由_90131314
Source text - Chinese
申請專利範圍第１項所請黏結二裝設有內孔之基版之方法籠統過廣，應明確界定各步驟具體之操作條件，而且所請方法實際上為配合所令請裝置操作，故亦宜於述及之元件後配合圖式以刮弧標示代號以示清楚。
此外應將申請專利範圍第２至７項中之相關項次併入第1項以具體界定其特徵。
本項若未做前述界定，則籠統過廣，未載明必要之技術特徵，且非說明書及圖式所能合理支持，不符合專利法之規定。
而且本案依目前之界定，未界定具體之操作條件，則亦無法突顯本案之技術特徵，而與初審諸引證前案做有效區隔。
申請專利範圍第２至７項為第１項隻附屬項，理由同上，應配合修正。
（四）申請專利範圍第８項所請裝置過於籠統，應明確界定所請裝置之各元件具體之結構特徵，以及各元件相互之連結關係。
此外應將申請專利範圍第９至第１４項中之相關項次併入第８項以定其特徵。
本項若未做前述界定，籠統過廣，未載明必要之技術特徵，且非說明書及圖式所能合理支持，不符合專利法之規定。
申請專利範圍第９至14項為第８項隻附屬項，理由同上，應配合修正。
Translation - German
Das Verfahren nach Anspruch 1 zum Zusammenfügen von zwei ein Innenloch aufweisenden Substraten ist zu allgemein und zu breit gefaßt, jeder Schritt sollte eindeutig auf die konkreten Funktionsbedingungen begrenzt sein, außerdem steht das beantragte Verfahren praktisch im Einklang mit der Funktionsmethode der beantragten Vorrichtung, so daß die Bauteile bei ihrer Erwähnung zur besseren Klarheit mit Kennummern in Bezug auf die Abbildungen zu versehen sind.
Außerdem sollten die relevante Punkte in den Ansprüche 2 bis 7 in den Anspruch 1 übergenommen werden, um eine klare Kennzeichnung zu gewähren.
Ohne die erwähnte Begrenzungen ist dieser Anspruch zu allgemein und zu weit gefaßt, ohne die klare technische Kennzeichnungen bekannt gegeben zu haben, sowie ohne vernünftige Unterstützung durch die Beschreibungen und durch die Abbildungen von dem vorliegenden Antrag, er entspricht nicht den Vorschriften in den Patentrechten.
Dieser Antrag begrenzt in der derzeitigen Form weder die konkreten Funktionsbedingungen, noch kennzeichnet er die Technik, ebensowenig kann er sich von dem im ersten Instanz zitierten Stand der Technik effektiv differenzieren.
Die Ansprüche 2 bis 7 sind abhängig von dem Anspruch 1, so daß sie aus den gleichen Gründen auch entsprechend zu korrigieren sind.
(4) Vorrichtung nach Anspruch 8 ist zu allgemein gefaßt; es sollte auf die konkreten konstruktiven Kennzeichnungen der Bauteile und deren gegenseitige Beziehungen von der beanspruchten Vorrichtung begrenzen.
Außerdem sollten die relevante Punkte in den Ansprüche 9 bis 14 in das Anspruch 8 übergenommen werden, um eine klare Kennzeichnung zu gewähren.
Ohne die erwähnte Begrenzungen ist dieser Anspruch zu allgemein und zu weit gefaßt, ohne die klare technische Kennzeichnungen bekannt gegeben zu haben, sowie ohne vernünftige Unterstützung durch die Beschreibungen und durch die Abbildungen von dem vorliegenden Antrag, er entspricht nicht den Vorschriften in den Patentrechten.
Die Ansprüche 9 bis 14 sind abhängig von dem Anspruch 8, so daß sie aus den gleichen Gründen auch entsprechend zu korrigieren sind.
German to Chinese: Source in German, Target 1 in traditional Chinese and Target 2 in simplified Chinese
Detailed field: Patents
Source text - German

Patentansprüche
1. Verfahren zum Beschichten von Substraten, bei dem das Substrat durch eine Magnetron-Zerstäubungsprozess mit einem zu zerstäubenden Target und einem rotierenden Magnetsystem beschichtet wird, dadurch gekennzeichnet, dass ein Zerstäubungszustand des Targets ermittelt wird, und die Rotationsgeschwindigkeit des Magnetsystems in Abhängigkeit von dem ermittelten Zerstäubungszustand des Targets gesteuert wird.
2. Verfahren nach Ansprüch 1, dadurch gekennzeichnet, dass der Zerstäubungszustand des Targets anhand der verbleibenden Restlebenszeit ermittelt wird.
3. Verfahren nach Ansprüch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, dass der Zerstäubungszustand des Targets anhand der Anzahl von durchgeführten Zerstäubungsvorgängen ermittelt wird.
4. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die Rotationsgeschwindigkeit des Magnetsystems mit zunehmender Zerstäubung des Targets verringert wird.
5. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass ein optisches Speichermedium mit einer Reflexionsschicht beschichtet wird.
6. Verfahren nach Anspruch 5, dadurch gekennzeichnet, dass die Reflexionsschicht aus einer Aluminium- oder Silberschicht oder Legierungen davon gebildet wird.
7. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die Rotationsgeschwindigkeit des Magnetsystems auch in Abhängigkeit vom verwendeten Targetmaterial gewählt wird.
8. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass anhand einer Energieaufnahme eines Motors festgestellt wird, ob sich ein Target in der Zerstäubungsvorrichtung befindet und/oder ob sich das Magnetsystem ordnungsgemäß dreht.
9. Vorrichtung zum Beschichten von Substraten, die eine Zerstäubungskathode mit einem Target und einem rotierenden Magnetsystem aufweist, dadurch gekennzeiehnet, dass Mittel zum Ermitteln eines Zerstäubungszustandes des Targets sowie zum Steuern einer Rotationsgeschwindigkeit des Magnetsystems in Abhängigkeit vom ermittelten Zerstäubungszustand vorgesehen ist.
10. Vorrichtung nach Anspruch 9, dadurch gekennzeichnet, dass das Magnetsystem folgendes aufweist, eine Jochplatte (50) und wenigstens eine erste Gruppe (70) und einer zweiten Gruppe (71) von Magneten, die mit entgegengesetzter Polung auf der Jochplatte (50) angeordnet sind, wobei die Magnete der ersten Gruppe (70) eine im Wesentlichen geschlossene innenliegende Magnetreihe bilden und die Magnete der zweiten Gruppe (71) eine im Wesentlichen geschlossene außenliegende Magnetreihe bilden, die die innenliegende Magnetreihe radial umgibt, wobei die innenliegende Magnetreihe einen ersten Kreisbogen (75) bildet, der einen Winkel von größer 180° eines ersten Kreises (A) beschreibt, sowie einen zweiten Kreisbogen (76) eines zweiten Kreises (C), wobei der zweite Kreisbogen (76) innerhalb des ersten Kreises (A) liegt und wobei die außenliegende Magnetreihe einen dritten Kreisbogen (78) bildet, der einen Winkel von größer 180° eines dritten Kreises (E) beschreibt, sowie einen vierten Kreisbogen (80) eines vierten Kreises (F), wobei der vierte Kreisbogen (80) innerhalb des dritten Kreises (E) liegt, und der dritte Kreis (E) den ersten Kreis (A) umgibt.
11. Vorrichtung nach Anspruch 10, dadurch gekennzeichnet, dass die ersten und dritten Kreise (A, E) einen gemeinsamen Mittelpunkt B aufweisen.
12. Vorrichtung nach Anspruch 10 oder 11, dadurch gekennzeichnet, dass der erste Kreisbogen (75) einen Winkel zwischen 220° und 250°, und vorzugsweise von ungefähr 235° beschreibt.
13. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 9 bis 12, dadurch gekennzeichnet, dass der zweite Kreisbogen (76) einen Winkel zwischen 90° und 120°, und vorzugsweise von ungefähr 103° beschreibt.
14. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 9 bis 13, dadurch gekennzeichnet, dass die ersten und zweiten Kreise (A, C) der innenliegenden Magnetreihe im Wesentlichen den gleichen Radius aufweisen.
15. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 9 bis 14, dadurch gekennzeichnet, dass der dritte Kreisbogen (78) einen Winkel zwischen 225° und 255°, und vorzugsweise von ungefähr 239° beschreibt.
16. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 9 bis 15, dadurch gekennzeichnet, dass der vierte Kreisbogen (80) einen Winkel zwischen 95° und 125°, und vorzugsweise von ungefähr 111° beschreibt.
17. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 9 bis 16, dadurch gekennzeichnet, dass der Radius des dritten Kreise (E) größer ist als der Radius des vierten Kreises (F).
18. Vorrichtung nach Anspruch 17, dadurch gekennzeichnet, das der Radius des dritten Kreises (E) um 80% bis 100%, vorzugsweise um ungefähr 90% größer ist als der Radius des vierten Kreises (F).
19. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 9 bis 18, dadurch gekennzeichnet, dass die außenliegende Magnetreihe zwei gerade Segmente (79) aufweist, die die freien Enden der dritten und vierten Kreisbogen (78, 80) verbinden.
20. is 19, gekennzeichnet durch eine dritte Gruppe (72) von Magneten, die auf der Jochplatte (50) angeordnet ist, eine dem vierten Kreisbogen (80) gegenüberliegende nicht geschlossene Magnetreihe bildet und außerhalb der ersten und zweiten geschlossenen Magnetreihen liegt.
21. Vorrichtung nach Anspruch 20, dadurch gekennzeichnet, dass die dritte Gruppe (72) von Magneten in der gleichen Richtung gepolt ist, wie die zweite Gruppe (71) von Magneten.
22. Vorrichtung nach Anspruch 20 oder 21, dadurch gekennzeichnet, dass die dritte Gruppe (72) von Magneten einen fünften Kreisbogen (81) eines fünften Kreises (H) mit einem Winkel von 15° bis 45° und insbesondere von ungefähr 32° beschreibt.
23. Vorrichtung nach Anspruch 22, dadurch gekennzeichnet, dass der fünfte Kreis (H) einen größeren Radius besitzt als der dritte Kreis (E).
24. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 20 bis 23, dadurch gekennzeichnet, dass die dritte Gruppe (72) von Magneten innerhalb des vierten Kreises (F) liegt.
25. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 9 bis 24, dadurch gekennzeichnet, dass die Mittelpunkte der Kreise auf einer gemeinsamen Geraden liegen.
26. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 9 bis 25, dadurch gekennzeichnet, dass die Magnetreihen zu der Geraden spiegelsymmetrisch sind.
27. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 9 bis 26, dadurch gekennzeichnet, dass die Jochplatte (50) eben ist, und um einen Mittelpunkt (X) rotationssymmetrisch ist.
28. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 9 bis 27, dadurch gekennzeichnet, dass ein Mittelpunkt (X) der Jochplatte und die Mittelpunkte (B, D, G) der Kreise (A, C, E, F, H) auf einer gemeinsamen Geraden (Y) liegen.
29. Vorrichtung nach Anspruch 28, dadurch gekennzeichnet, dass der gemeinsame Mittelpunkt (B) des ersten und dritten Kreises (A, E) entlang der Geraden (Y) zum Mittelpunkt (X) der Jochplatte versetzt ist.
30. Vorrichtung nach Anspruch 29, dadurch gekennzeichnet, dass die Mittelpunkte (D, G) des zweiten und vierten Kreises (C, F) entlang der Geraden (Y) zum Mittelpunkt der Jochplatte versetzt sind und bezüglich des Mittelpunkts (X) der Jochplatte auf einer anderen Seite liegen, wie der gemeinsame Mittelpunkt (B) des ersten und dritten Kreises (A, E).
31. Vorrichtung nach Anspruch 30, dadurch gekennzeichnet, dass der gemeinsame Mittelpunkt (B) des ersten und dritten Kreises (A, E) mit einem Abstand zum Mittelpunkt (X) der Jochplatte angeordnet ist, der kleiner ist als ein Abstand zwischen dem Mittelpunkt (X) der Jochplatte und dem Mittelpunkt (D) des zweiten Kreises (C), und dass der Mittelpunkt (G) des vierten Kreises (F) mit einem größren Abstand zum Mittelpunkt (X) der Jochplatte (50) angeordnet ist, als der Mittelpunkt (D) des Kreises (C).
32. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 9 bis 31, dadurch gekennzeichnet, dass die Magnete (54) durch wenigstens eine nichtmagnetische Platte (52) mit entsprechenden Durchführöffnungen für die Magnete (54) geführt sind.
33. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 9 bis 32, gekennzeichnet durch unmagnetische Ausgleichsgewichte (56) an der Jochplatte (50) zum Ausgleichen des Gewichts des Magnetsystems (7) derart, dass deren Schwerpunkt auf einer sich durch einen Mittelpunkt (X) der Jochplatte (50) erstreckenden Normalen liegt.
Translation - Chinese
(Target 1 in traditional Chinese)
申請專利範圍 "
1.一種使用包括有濺射靶和旋轉磁鐵系統的磁控濺射製程對基板進行鍍膜的方法，其特徵為，先計算出濺射靶的一種濺射狀態值，並依據這項計算得出的濺射靶濺射狀態值來控制磁鐵系統的旋轉速度。
2.根據申請專利範圍第一項所稱的方法，它的特徵是，這個濺射靶的濺射狀態是用濺射靶餘下的剩餘使用壽命計算出來的。
3.根據申請專利範圍第一項或第二項所稱的方法，它的特徵是，這個濺射靶的濺射狀態是用濺射過程的實施次數來計算出的。
4.根據前列各項申請專利範圍中任意一項所稱的方法，它的特徵是，磁鐵系統的旋轉速度是隨著濺射靶濺射次數的增加，而予以相對應地降低。
5.根據前列各項申請專利範圍中任意一項所稱的方法，它的特徵是，用它來為光儲存介質鍍上反射膜的。
6.根據申請專利範圍第五項所稱的方法，它的特徵是，該項反射膜是由鋁膜或銀膜或者是它們的合金膜所構成的。
7.根據前列各項申請專利範圍中任意一項所稱的方法，它的特徵是，它的磁鐵系統的旋轉速度是可以也依據所用的濺射靶材料來選用的。
8.根據前列各項申請專利範圍中任意一項所稱的方法，它的特徵是，它利用一個馬達的一個電能消耗量，來判定是否在濺鍍裝置中存在著一個濺射靶，以及／或者磁鐵系統是否是旋轉正常的。
9.一種有一個包含有濺射靶的濺射陰極機組和一組旋轉磁鐵系統的基板鍍膜裝置，它的特徵是，它設置有計算濺射靶濺射狀態值以及依據所計算出的濺射靶濺射狀態值來控制磁鐵系統的一個旋轉速度的機構。
10. 根據申請專利範圍第九項所稱的裝置，它的特徵是，它的磁鐵系統設有以下各項者：一塊軛板（50）以及至少第一組磁鐵（70）和第二組磁鐵（71），這兩組磁鐵以相反的極性方向設置在軛板（50）上，其中第一組磁鐵（70）組成了一圈基本上是封閉的內置磁鐵組，而第二組磁鐵（71）則組成了一圈基本上是封閉的外置磁鐵組，並呈輻射狀環繞著內置磁鐵組，其中，內置磁鐵組又構成了第一個圓弧區（75）及第二個圓弧區（76），第一個圓弧區（75）在第一個圓周（A）上佔據了一個大於180°的角度的弧區，而第二個圓弧區（76）是設置在第二個圓周（C）上，其中第二個圓弧區（76）是設置在第一個圓周（A）的內部，另外，外置磁鐵組則構成了第三個圓弧區（78）以及第四個圓弧區（80），第三個圓弧區（78）在第三個圓周（E）上形成了大於180°的角度的弧區，第四個圓弧區（80）設置在第四個圓周（F）上，其中，第四個圓弧區（80）在第三個圓周（E）之內，並且第三個圓周（E）包含第一個圓周（A）。
11. 根據申請專利範圍第十項所稱的裝置，它的特徵是，第一個圓周和第三個圓周（A，E）擁有一個共同的中心點B。
12. 根據申請專利範圍第十項或第十一項所稱的裝置，它的特徵是，第一個圓弧區（75）所佔據的角度介於220°和250°之間，而尤其以在235°左右為佳。
13. 根據申請專利範圍第九項至第十二項中任意一項所稱的裝置，它的特徵是，第二個圓弧區（76）形成的角度介於90°和120°之間，而尤其以在103°左右為佳。
14. 根據申請專利範圍第九項至第十三項中任意一項所稱的裝置，它的特徵是，內置磁鐵組的第一個圓周和第二個圓周（A，C）的半徑基本上是相同的。
15.根據申請專利範圍第九項至第十四項中任意一項所稱的裝置，它的特徵是，第三個圓弧區（78）形成的角度介於225°和255°之間，而尤其是以在239°左右為佳。
16.根據申請專利範圍第九項至第十五項中任意一項所稱的裝置，它的特徵是，第四個圓弧區（80）形成的角度介於95°和125°之間，而尤其以在111°左右為佳。
17.根據申請專利範圍第九項至第十六項中任意一項所稱的裝置，它的特徵是，第三個圓周（E）的半徑大於第四個圓周（F）的半徑。
18.根據申請專利範圍第十七項所稱的裝置，它的特徵是，第三個圓周（E）的半徑比第四個圓周（F）的半徑大80%至100%，而以大90%左右為佳。
19.根據申請專利範圍第九項至第十八項中任意一項所稱的裝置，它的特徵是，在其外置磁鐵組中設置有兩組連接第三圓弧區和第四圓弧區（78，80）自由終端點的直線形區段（79）。
20. 根據申請專利範圍第九項至第十九項中任意一項所稱的裝置，它的特徵是，設置在軛板（50）上的第三組磁鐵（72）組成了一排面向第四個圓弧區（80）置放的未封閉磁鐵組，而且它是位於第一圈和第二圈封閉磁鐵組之外的。
21.根據申請專利範圍第二十項所稱的裝置，它的特徵是，第三組磁鐵（72）和第二組磁鐵（71）的磁極方向都是相同的。
22.根據申請專利範圍第二十項或第二十一項所稱的裝置，它的特徵是，第三組磁鐵（72）構成了第五個圓周（H）的第五個圓弧區（81），所佔的角度介於15°至45°之間，而尤其以在32°左右為佳。
23.根據申請專利範圍第二十二項所稱的裝置，它的特徵是，第五個圓周（H）的半徑大於第三個圓周（E）的半徑。
24.根據申請專利範圍第二十項至第二十三項中任意一項所稱的裝置，它的特徵是，第三組磁鐵（72）是設置在第四個圓周（F）之內的。
25.根據申請專利範圍第九項至第二十四項中任意一項所稱的裝置，它的特徵是，所有圓周的中心點均在同一條直線上。
26.根據申請專利範圍第九項至第二十五項中任意一項所稱的裝置，它的特徵是，所有磁鐵組對於該直線是呈鏡像對稱的。
27. 根據申請專利範圍第九項至第二十六項中任意一項所稱的裝置，它的特徵是，它的軛板（50）是平整的，並且是以中心點（X）為軸心呈旋轉對稱的。
28.根據申請專利範圍第九項至第二十七項中任意一項所稱的裝置，它的特徵是，軛板中心點（X）和圓周（A，C，E，F，H）的中心點（B，D，G）均在同一條直線（Y）上。
29.根據申請專利範圍第二十八項中所稱的裝置，它的特徵是，第一個和第三個圓周（A，E）的中心點（B）沿直線（Y）偏離軛板中心點（X）。
30.根據申請專利範圍第二十九項中所稱的裝置，它的特徵是，第二個和第四個圓周（C，F）的中心點（D，G）沿直線（Y）偏離軛板中心點，並且相對於第一個和第三個圓周（A，E）的共同中心點（B），它們位於軛板中心點（X）的另一側。
31.根據申請專利範圍第三十項中所稱的裝置，它的特徵是，第一個和第三個圓周（A，E）的共同中心點（B）設在離軛板中心點（X）有一段距離的位置上，而這段距離小於軛板中心點（X）和第二個圓周（C）中心點（D）之間的距離，而且第四個圓周（F）的中心點（G）設在比圓周（C）的中心點（D）離軛板（50）中心點（X）距離更遠的位置上。
32.根據申請專利範圍第九項至第三十一項中任意一項所稱的裝置，它的特徵是，磁鐵（54）是應用至少一個設有恰當的磁鐵（54）導引穿孔的非磁性導盤（52）來達成其排列定位。
33.根據申請專利範圍第九項至第三十二項中任意一項所稱的裝置，它的特徵是，它在軛板（50）上設置了複數個非磁性材質的平衡用重砣（56），用以平衡磁鐵系統（7）的重量，以使得磁鐵系統的重心落於一條通過軛板（50）中心點（X）延伸的法線上。


(Target 2 in simplified Chinese)
专利权利要求 "
1.在基材镀膜工艺中，通过带需溅镀靶材和旋转磁铁系统的磁控溅镀流程对基材进行镀膜，这项工艺的技术特征是计算靶材的溅镀状态，并依据计算出的靶材溅镀状态控制磁铁系统的旋转速度。
2.根据权利要求1，工艺的技术特征是借助余下的剩余使用寿命计算靶材的溅镀状态。
3.根据权利要求1或2，工艺的技术特征是借助溅镀过程的完成次数计算靶材的溅镀状态。
4.根据前面权利要求中的其中一项，工艺的技术特征是随着靶材溅镀次数的增加，磁铁系统的旋转速度相应降低。
5.根据前面权利要求中的其中一项，工艺的技术特征是为光存储介质镀上反射层。
6.根据权利要求5，工艺的技术特征是反射层由铝层或银层或者是合金层（铝或银）组成。
7.根据前面权利要求中的其中一项，工艺的技术特征是也可以依据所用的靶材材料选择磁铁系统的旋转速度。
8.根据前面权利要求中的其中一项，工艺的技术特征是借助马达的电能消耗来确定，靶材是否是在溅镀装置中，以及／或者磁铁系统是否正常旋转。
9.在基材的镀膜装置中有一个带靶材和旋转磁铁系统的阴极溅镀，这种镀膜装置的技术特征是预设了用于计算靶材溅镀状态的方法以及依据计算出的溅镀状态用于控制磁铁系统旋转速度的方法。
10.根据权利要求9，镀膜装置的技术特征是对磁铁系统作如下说明：一块轭板（50）以及至少两组磁铁，即第一组磁铁（70）和第二组磁铁（71），这两组磁铁以相反的极性安放在轭板（50）上，其中第一组磁铁（70）组成了一圈基本封闭的内置磁铁组，而第二组磁铁（71）则组成了一圈基本封闭的外置磁铁组，并呈辐射状环绕内置磁铁组，其中，内置磁铁组又构成了第一个圆弧（75），形成了大于第一个圆周（A）180°的角度，以及第二个圆周（C）的第二个圆弧（76），其中第二个圆弧（76）在第一个圆周（A）之内，另外，外置磁铁组则构成了第三个圆弧（78），形成了大于第三个圆周（E）180°的角度，以及第四个圆周（F）的第四个圆弧（80），其中，第四个圆弧（80）在第三个圆周（E）之内，并且第三个圆周（E）包含第一个圆周（A）。
11.根据权利要求10，镀膜装置的技术特征是第一个圆周和第三个圆周（A，E）拥有一个共同的中心点B。
12.根据权利要求10或11，镀膜装置的技术特征是第一个圆弧（75）的角度介于220°和250°之间，通常在235°左右。
13.根据权利要求9至12中的其中一项，镀膜装置的技术特征是第二个圆弧（76）形成的角度介于90°和120°之间，通常在103°左右。
14.根据权利要求9至13中的其中一项，镀膜装置的技术特征是内置磁铁组的第一个圆周和第二个圆周（A，C）的半径基本相同。
15.根据权利要求9至14中的其中一项，镀膜装置的技术特征是第三个圆弧（78）形成的角度介于225°和255°之间，通常在239°左右。
16.根据权利要求9至15中的其中一项，镀膜装置的技术特征是第四个圆弧（80）形成的角度介于95°和125°之间，通常在111°左右。
17.根据权利要求9至16中的其中一项，镀膜装置的技术特征是第三个圆周（E）的半径大于第四个圆周（F）的半径。
18.根据权利要求17，镀膜装置的技术特征是第三个圆周（E）的半径比第四个圆周（F）的半径大80%至100%，通常大90%左右。
19.根据权利要求9至18中的其中一项，镀膜装置的技术特征是在外置磁铁组中有两个连接第三圆弧和第四圆弧（78，80）终点的直线段（79）。
20.根据权利要求9至19中的其中一项，镀膜装置的技术特征是安放在轭板（50）上的第三组磁铁（72）组成了一排面向第四个圆弧（80）摆放的未封闭磁铁组，并位于第一圈和第二圈封闭磁铁组之外。
21.根据权利要求20，镀膜装置的技术特征是第三组磁铁（72）与第二组磁铁（71）一样在相同方向被磁极化。
22.根据权利要求20或21，镀膜装置的技术特征是第三组磁铁（72）构成了第五个圆周（H）的第五个圆弧（81），圆弧形成的角度介于15°至45°之间，尤其在32°左右。
23.根据权利要求22，镀膜装置的技术特征是第五个圆周（H）的半径大于第三个圆周（E）的半径。
24.根据权利要求20至23中的其中一项，镀膜装置的技术特征是第三组磁铁（72）在第四个圆周（F）之内。
25.根据权利要求9至24中的其中一项，镀膜装置的技术特征是所有圆周的中心点均在同一条直线上。
26.根据权利要求9至25中的其中一项，镀膜装置的技术特征是磁铁组基于直线是镜像对称的。
27.根据权利要求9至26中的其中一项，镀膜装置的技术特征是轭板（50）是平整的，并且是以中心点（X）为轴心旋转对称的。
28.根据权利要求9至27中的其中一项，镀膜装置的技术特征是轭板中心点（X）和圆周（A，C，E，F，H）的中心点（B，D，G）均在同一条直线（Y）上。
29.根据权利要求28，镀膜装置的技术特征是第一个和第三个圆周（A，E）的中心点（B）沿直线（Y）偏离轭板中心点（X）。
30.根据权利要求29，镀膜装置的技术特征是第二个和第四个圆周（C，F）的中心点（D，G）沿直线（Y）偏离轭板中心点，并且相对于第一个和第三个圆周（A，E）的共同中心点（B），它们位于轭板中心点（X）的另一侧。
31.根据权利要求30，镀膜装置的技术特征是第一个和第三个圆周（A，E）的共同中心点（B）设在离轭板中心点（X）有一段距离的位置上，这段距离小于轭板中心点（X）和第二个圆周（C）中心点（D）之间的距离，而且第四个圆周（F）的中心点（G）设在比圆周（C）的中心点（D）离轭板（50）中心点（X）距离更远的位置上。
32.根据权利要求9至31中的其中一项，镀膜装置的技术特征是磁铁（54）通过至少一个带相应的磁铁（54）通孔的无磁导盘（52）进行引导。
33.根据权利要求9至32中的其中一项，镀膜装置的技术特征是在轭板（50）上使用无磁平衡砣（56），用以平衡磁铁系统（7）的重量，这种方式可以使磁铁系统的重心位于一条通过轭板（50）中心点（X）延伸的法线上。


Translation education PhD - Justig Liebig Univ (BRD)
Experience Years of experience: 6. Registered at ProZ.com: Jun 2005.
ProZ.com Certified PRO certificate(s) N/A
Credentials Chinese to German (Dr Agr & Dipl Agr Eng of Giessen Univ., Germany)
Chinese to English ( 5 yrs' P-Eng career in Ontario and BC., Canada)
German to Chinese (5 yrs worked on Automation Technology in TU Munich)
Memberships Chinese Society of Engineers, Member of APAA (Asian Patent Attorneys Association)
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Website http://www.dr-pen-and-associates.com/
CV/Resume CV/Resume (PDF)
Events and training
Bio
I have, for example:

 *worked for five years as Professional Engineer in Ontario and British Columbia, Canada;
 *taught Electronics, Mechatronics, Computer Science and Automation Engineering, etc., as professor at two national universities;
 *worked for a long list of German, Swiss and French companies as freelancer and as Patent and Trademarks Attorney;
 *acquired Diplom Agr and Doktor Agr degrees and worked 10 years on Automation technology in Germany;
 *been able to offer highest quality of work through sound intellectual background and diversified work experience.

Your assignment of translation from German (or English) to ZH-TW and to ZH-CN of:
 *patent/trademark related documents; or
 *any other small or large technical documents,

will be highly appreciated.


As a Patent Attorney in Taiwan, I can prosecute your Patent and Trademark filings, etc. in Taiwan.


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Keywords: Chinese, traditional, simplified, manual, catalog, usersguide, patent, trademark, applications, recordals. See more.Chinese,traditional,simplified,manual,catalog,usersguide,patent,trademark,applications,recordals,Taiwan,translation,technical. See less.


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Dec 6, 2017